EDX

Technische Ausstattung:
- ZEISS EVO MA 15 – Rasterelektronenmikroskop für Hochvakuum und variablen Druckbereich.
- Computergesteuerter REM mit Wolfram-Kathode
- Dreilinsige Elektronenoptik Optibeam-Strahlkontrolle
- Variabler Druckbereich zwischen 10Pa – 400Pa
- EasyVP Druckeinstellung von HV zu VP ohne Wechsel der Druckreduzierblenden
- Gaseinlass: Luft

Spezifizierte Ortsauflösung (Sekundärelektronen):
3.0nm bei 30kV (ETSE)
3.4nm bei 30kV (VPSE)
4.0nm bei 30kV im BSD
8.0nm bei 3kV im Hochvakuum
Beschleunigungsspannung: 0.2V-30 kV
Sonderstrom:0.5pA – 5µA

Software:
- SmartPI – Partikelanalyse mit einem Bruker XFlash6-10
- Detektor : 10mm² mit einer Auflösung von 129 eV
- Software Bruker: Quantax Basic
- SmartSEM

Vorteile:
- Vollautomatische Materialanalyse der Partikel (siehe Beispielbericht nach ISO16232)
- Aufnahme von bis zu fünf Filter gleichzeitig
- kundenspezifische Rezepte für die Partikelanalyse
- Einzelanalyse von relevanten Partikeln
- schnelle Datengewinnung

Beispielbericht: