EDX

 

Technische Ausstattung:

  • ZEISS EVO MA 15 – Rasterelektronenmikroskop für Hochvakuum und variablen Druckbereich.
  • Computergesteuerter REM mit Wolfram-Kathode
  • Dreilinsige Elektronenoptik Optibeam-Strahlkontrolle
  • Variabler Druckbereich zwischen 10Pa – 400Pa
  • EasyVP Druckeinstellung von HV zu VP ohne Wechsel der Druckreduzierblenden
  • Gaseinlass: Luft

Spezifizierte Ortsauflösung (Sekundärelektronen):

3.0nm bei 30kV (ETSE)
3.4nm bei 30kV (VPSE)
4.0nm bei 30kV im BSD
8.0nm bei 3kV im Hochvakuum
Beschleunigungsspannung: 0.2V-30 kV
Sonderstrom:0.5pA – 5µA

Software:

  • SmartPI – Partikelanalyse mit einem Bruker XFlash6-10
  • Detektor : 10mm² mit einer Auflösung von 129 eV
  • Software Bruker: Quantax Basic
  • SmartSEM

Vorteile:

  • Vollautomatische Materialanalyse der Partikel (siehe Beispielbericht nach ISO16232)
  • Aufnahme von bis zu fünf Filter gleichzeitig
  • kundenspezifische Rezepte für die Partikelanalyse
  • Einzelanalyse von relevanten Partikeln
  • schnelle Datengewinnung

Beispielbericht: